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核心技術

采用金屬氧化物鍍層與金屬鍍層，通過磁控濺射工藝制備，多層鍍膜系實現太陽光波段的選擇性透過與反射，在可見光區透過率大于40%，近紅外光區反射率大于80%，同時通過中遠紅外波段無機陶瓷發射涂層提高薄膜可見光波段透過率，減少光污染。

攻克難題

金屬氧化物鍍層與金屬鍍層的選擇，多層鍍膜系的設置。

技術突破

通過磁控濺射鍍層膜系間的光學性能，解決太陽光波段的選擇性透過與反射，通過降低薄膜可見光區的反射率，減少貼膜后的光污染。