技術特點
在半導體制造中，光罩（Mask，也稱Reticle）用于批量轉移電路設計圖形到芯片上，承載了圖形設計和工藝技術等關鍵信息，光罩上的圖形錯誤、顆粒劃痕等缺陷都會影響半導體制造的良率降低，進而影響到芯片的性能和可靠性。維普STORM 3000系列光罩檢測設備，適用于Mask shop、FAB工廠對光罩出廠檢測及定期監控。對于圖形缺陷、軟缺陷、Haze、Glass面及Pellicle面進行準確檢測。
STORM 3000
STORM 3000?是維普第三代IC Mask缺陷檢測產品，經過數年不斷測試與持續改進，STORM 3000已取得業界頭部客戶的評估認可。STORM 3000基于先進的激光成像技術與高靈敏度的軟件算法，可具備DB、DD、SL等檢測模式，適用于Mask Shop、FAB對光罩生產過程、出貨及定期檢測的需求，具有高精度、高效率、易使用等重大優勢。
應用場景
為Mask shop及晶圓制造提供高效的Reticle檢測方案。
關鍵特性
- 基于UV激光的超高分辨率光學系統
- 支持反射光、透射光同時檢測
- 支持DD、SL、DB檢測模式
- 支持SMIF Pod、Nikon CASE、Canon CASE及Shipping Box等片盒
- 支持GDS、OASIS、MEBES文件格式
- 支持OPC校正
- 支持GPU分布式計算
IRIS-530
IRIS-530是維普推出的針對IC Mask雙表面顆粒檢測設備，系統采用上下兩組光學系統與明場、暗場照明模式。可同時檢測Pellicle及Glass面的顆粒及臟污檢測，適用于Mask shop出貨檢測、FAB廠日常監控。
應用場景
為Mask shop出貨檢測、FAB Reticle定期監控提供高效、低成本的檢測方案。
關鍵特性
- 同時檢測玻璃面、pellicle面顆粒
- 可兼容RSP200、Nikon Case、水晶盒的開盒與自動上下板
- 基于明場+暗場的檢測方式
- pellicle面、glass面、膜框內外部檢測區域可靈活設置
- 缺陷位置與圖形位置關系可視化展示
- 配置氣浴風刀，可對表面顆粒進行清除
STORM 3000U
STORM 3000U是維普新一代針對IC Mask基板缺陷檢測產品，基于已被認可的STORM 3000平臺架構，在光學成像、傳輸及緩存進行相應的優化、以提升易用性及降低設備成本。適用于Mask Blank基板生產、出貨及Mask shop來料檢測需求，針對200nm檢測精度，具有高效率、易使用、低成本等重大優勢。
應用場景
為IC Mask基板制造、IC Mask shop來料檢測提供高效、低成本的檢測方案。
關鍵特性
- 基于激光的超高分辨率光學系統
- 支持SMIF Pod自動上下料
- 支持顆粒、劃傷、針孔、臟污檢測
- 支持自動Review及缺陷分類
- 支持拋光板、鉻板及勻膠后檢測
- 支持基板自動分級及緩存
