在LCD、TFT、CF、Touch Panel制造中，光罩（也稱Mask）用于批量轉移電路設計圖形到芯片上，承載了圖形設計和工藝技術等關鍵信息，光罩上的圖形錯誤、顆粒劃痕等缺陷都會影響最終產品的良率降低，進而影響產品性能和可靠性。
維普STORM 2000SL系列大尺寸光罩檢測設備，可應用于LCD、TFT、CF、Touch Panel、OLED、PDP等平板顯示行業的Mask制造及基板制造過程。
STORM 2000SLV
STORM 2000SLV是維普針對于大尺寸Mask 基板開發的缺陷檢測設備，適用于拋光板、鉻板、均膠板中顆粒、針孔、臟污的檢測。采用先進的光學系統，通過一次掃描可完成顆粒、針孔的識別檢測。針對Mask Blank基板廠商，具備高精度、高效率、易使用等重大優勢。
應用場景
為G8.5及以下尺寸的Mask基板，提供高效的表面缺陷檢測方案。
關鍵特性
- 可兼容RSP200、Nikon Case、水晶盒的開盒與自動上下板
- 基于明場+暗場的檢測方式
- pellicle面、glass面、膜框內外部檢測區域可靈活設置
- 缺陷位置與圖形位置關系可視化展示
- 配置氣浴風刀，可對表面顆粒進行清除
STORM 2000SLH
STORM 2000SLH是維普針對于大尺寸Mask開發的缺陷檢測設備，適用于LCD、TFT、CF、Touch Panel等大尺寸Mask光刻后的圖形缺陷檢測。采用先進的光學成像與軟件系統，可支持DB、DD、SL等檢測模式，針對大尺寸Mask shop客戶，具備高精度、高效率、易使用等重大優勢。
應用場景
為G8.5及以下尺寸的Mask，提供高效的表面缺陷檢測方案，滿足0.5um的缺陷檢測能力。
關鍵特性
- 最大支持8.5代面板尺寸
- 支持Loader自動上下片，支持與AGV對接
- 自適應支持多種規格的基板尺寸
- 支持DD、DB、SL檢測模式
- 支持雙光學頭掃描，極大提高檢測效率
